压阻式传感器的制造工艺要点是什么？

📋 压阻式传感器的制造工艺要点是什么？ 详细介绍

压阻式传感器的制造始于硅晶圆的掺杂过程。通过离子注入或扩散技术，在硅片上形成压阻区，实现应力敏感电阻变化。

随后是光刻和蚀刻步骤，用于定义传感器膜片结构。精确控制蚀刻深度确保膜片厚度均匀，通常在10-50微米范围内，以优化灵敏度。

金属化层沉积形成电极和引线。采用溅射或蒸镀方法，确保低接触电阻，并通过退火处理提升附着力。

封装是关键环节，选择TO-5或SMD封装形式，需考虑密封性和热匹配。氮气填充封装可防止湿度影响长期稳定性。