半导体光刻掩模对准机：精密图案转移核心设备

📋 半导体光刻掩模对准机：精密图案转移核心设备 详细介绍

掩模对准机通过光学系统将光刻掩模与硅片精确对准，利用紫外光曝光将图案转移至涂有光刻胶的晶圆表面，实现微米甚至亚微米级精度。

在多层工艺中，对准标记识别与自动校准技术显著降低叠对误差，提升芯片良率与性能，是从研发到量产不可或缺的工艺装备。

现代对准机集成高分辨率成像与激光干涉测量，支持200mm及以上晶圆处理，广泛应用于IC、MEMS与功率器件制造领域。