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🧭 核心要点要TARC涂层在193nm浸没式光刻中置于光刻胶上方，主要功能为降低空气-液体界面反射，提高CD（关键尺寸）均匀性与图案保真度要主流TARC材料分为水溶性和溶剂型两大类，水溶性TARC在显影过程中同步去除，工艺兼容性更强，已成为14nm及以下制程标准配置要随着EUV光刻逐步量产，新型低缺陷、低颗粒TARC材料持续迭代，对残留物控制与缺陷率的要求更加严苛，直接影响芯片良率
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