芯片制造采用光刻技术,在硅晶圆上绘制纳米级图案,形成数十亿晶体管的基础结构。

通过化学气相沉积和离子注入,实现晶体管层叠集成,有助于高密度和低功耗性能。

后端封装测试优化良率,支持大规模半导体制造业生产。