高精度陶瓷名器:半导体与光刻机核心静电卡盘升级解决方案

高精度陶瓷名器:半导体与光刻机核心静电卡盘升级解决方案
名器静电卡盘使用99.9%高纯氧化铝基材,经CNC精密加工与特殊电极埋入工艺,实现±5μm平面度与优异的吸持力均匀性。 产品耐腐蚀、耐高温、耐等离子轰击性能突出,广泛应用于晶圆光刻、刻蚀、薄膜沉积等前端制程设备。...

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📋 高精度陶瓷名器:半导体与光刻机核心静电卡盘升级解决方案 详细介绍

名器静电卡盘使用99.9%高纯氧化铝基材,经CNC精密加工与特殊电极埋入工艺,实现±5μm平面度与优异的吸持力均匀性。

产品耐腐蚀、耐高温、耐等离子轰击性能突出,广泛应用于晶圆光刻、刻蚀、薄膜沉积等前端制程设备。

经过多家头部晶圆厂验证,该部件可有效降低颗粒污染与晶圆翘曲风险,已成为高端光刻机与PVD设备的标配升级选项。

🧭 核心要点

  • 名器静电卡盘使用99.9%高纯氧化铝基材,经CNC精密加工与特殊电极埋入工艺,实现±5μm平面度与优异的吸持力均匀性
  • 产品耐腐蚀、耐高温、耐等离子轰击性能突出,广泛应用于晶圆光刻、刻蚀、薄膜沉积等前端制程设备
  • 经过多家头部晶圆厂验证,该部件可有效降低颗粒污染与晶圆翘曲风险,已成为高端光刻机与PVD设备的标配升级选项

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