半导体热处理设备包括快速热处理RTP系统与垂直炉式退火炉，前者实现毫秒级升温，均匀性达±1°C。

工艺中控制氮气氛围，避免氧化污染。优化参数可提升掺杂激活率，适用于FinFET等先进节点。