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光刻工具是核心,用于图案化微镜阵列,EUV光刻机可实现亚微米分辨率。

蚀刻设备包括干法和湿法刻蚀机,处理硅基板以释放铰链结构。

真空镀膜系统沉积铝反射层,提高光效和耐腐蚀性。

测试工具如高速相机和激光扫描仪,验证微镜翻转速度和均匀度。

🧭 核心要点

  • 光刻工具是核心,用于图案化微镜阵列,EUV光刻机可实现亚微米分辨率
  • 蚀刻设备包括干法和湿法刻蚀机,处理硅基板以释放铰链结构
  • 真空镀膜系统沉积铝反射层,提高光效和耐腐蚀性
  • 测试工具如高速相机和激光扫描仪,验证微镜翻转速度和均匀度

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