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🧭 核心要点要目前主流工业纯水设备以反渗透(RO)为核心工艺,配合前置多介质过滤、活性炭吸附、精密过滤及紫外线杀菌,实现电导率≤10μS/cm的稳定产水要对超纯水需求更高的电子、制药行业,通常采用二级反渗透+EDI连续电去离子组合工艺,可将水电阻率稳定控制在15-18.2MΩ·cm要设备选型时需根据原水水质(TDS、硬度、硅含量)、产水量及终端用水标准综合确定工艺路线及材质等级(常用304/316L不锈钢)
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