2026年国产光刻机技术突破最新进展速览

📋 2026年国产光刻机技术突破最新进展速览 详细介绍

上海微电子600系列实现90nm工艺量产，28nm浸没式设备研发稳步推进，国产化率持续提升。

芯上微装等企业展出先进封装光刻机，DUV干法设备即将进入量产测试阶段。

EUV光刻机原理样机已亮相，采用LDP技术路线，2026年有望实现4nm制程试生产。