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🧭 核心要点要纯高氯酸(HClO₄,浓度70-72%)以其极强的氧化能力和极低的挥发性,成为湿法消解中最常用的强氧化剂要在半导体与电子行业中,高纯高氯酸用于硅片清洗和金属杂质去除,可有效避免引入碱金属离子污染要使用时需严格控制温度与浓度,避免与有机物剧烈反应,确保操作安全与分析结果准确性
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