薄膜厚度测量常用光谱仪技术原理与应用

薄膜厚度测量常用光谱仪技术原理与应用
光谱仪测膜厚主要基于薄膜干涉原理,利用反射光谱中的干涉峰谷位置与膜厚呈反比关系实现精准测量。 常见仪器分为紫外-可见分光光度计型与傅里叶变换红外型,前者适合100nm-30μm透明膜,后者擅长有机涂层测量。...

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光谱仪测膜厚主要基于薄膜干涉原理,利用反射光谱中的干涉峰谷位置与膜厚呈反比关系实现精准测量。

常见仪器分为紫外-可见分光光度计型与傅里叶变换红外型,前者适合100nm-30μm透明膜,后者擅长有机涂层测量。

测量时需注意基材反射率、膜层折射率输入准确性,建议多次多点测量取平均值以提高重复性。

🧭 核心要点

  • 光谱仪测膜厚主要基于薄膜干涉原理,利用反射光谱中的干涉峰谷位置与膜厚呈反比关系实现精准测量
  • 常见仪器分为紫外-可见分光光度计型与傅里叶变换红外型,前者适合100nm-30μm透明膜,后者擅长有机涂层测量
  • 测量时需注意基材反射率、膜层折射率输入准确性,建议多次多点测量取平均值以提高重复性