微纳加工平台技术突破：实现亚微米级高精度制造

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现代微纳加工平台通常集成光刻、电镀、干法刻蚀、激光直写及纳米压印等多种工艺，实现特征尺寸小于100nm的结构加工。

平台配备高精度对准系统与原位监测功能，大幅提升复杂三维微纳结构的加工一致性与良率。

在传感器、微光学器件、射频MEMS及第三代半导体领域，微纳加工平台已成为推动器件性能突破的关键基础设施。