全球激光光刻设备主要厂商及其技术创新概述

📋 全球激光光刻设备主要厂商及其技术创新概述 详细介绍

ASML主导EUV光刻市场，提供高NA系统，支持7nm以下制程，全球市占率超80%。

尼康和佳能专注DUV设备，适用于成熟节点和先进封装，强调高叠加精度。

中国SMEE等新兴厂商推进国产化，聚焦投影式光刻，提升供应链完整性。