高纯钼材料在半导体与真空炉领域的关键应用

📋 高纯钼材料在半导体与真空炉领域的关键应用 详细介绍

高纯钼在单晶硅生长炉、LED蓝宝石炉及真空镀膜设备中用作加热体、反射屏和支撑结构，其熔点高达2623℃且高温强度衰减极小。

半导体行业对钼中氧、碳、氮等杂质含量控制极为严格，采用电子束熔炼+多次区域熔炼工艺可将纯度提升至5N以上。

表面抛光与精密加工后的高纯钼部件，能有效减少颗粒污染，是先进制程设备不可或缺的耗材。