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🧭 核心要点要化学浸泡法采用王水、氢氟酸或专用清洗液去除表面金属离子与有机残留,常用于光学级石英晶片前处理要高温退火净化(800-1200℃)配合真空或惰性气氛,可有效去除晶体内包裹体与应力,是高端谐振器晶体主流工艺要等离子体清洗与紫外臭氧清洗则适用于精密涂膜前最终净化,具有无损伤、高效率特点
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