三氯化硼气体在半导体与有机合成工业中的核心作用

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三氯化硼气体是半导体制造中重要的p型掺杂源和等离子刻蚀气体，在硅片硼扩散及干法刻蚀工艺中广泛使用。

在精细有机合成领域，BCl₃常用作Lewis酸催化剂，用于Friedel-Crafts烷基化、酰化反应及硼烷类化合物的合成。

工业应用中需采用专用钢瓶和严格的泄漏防控措施，确保高纯度与使用过程的安全性。