Woollam光谱椭偏仪:薄膜厚度与光学常数精密测量

Woollam光谱椭偏仪:薄膜厚度与光学常数精密测量
Woollam椭偏仪如M-2000、RC2系列覆盖193-3200nm宽光谱范围,支持反射、透射及穆勒矩阵测量,精度达亚埃级。 在半导体、光学镀膜及显示面板领域,用于监测氧化物、氮化物及聚合物薄膜厚度与材料特性,实现过程控制与质量优化。...

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Woollam椭偏仪如M-2000、RC2系列覆盖193-3200nm宽光谱范围,支持反射、透射及穆勒矩阵测量,精度达亚埃级。

在半导体、光学镀膜及显示面板领域,用于监测氧化物、氮化物及聚合物薄膜厚度与材料特性,实现过程控制与质量优化。

设备配备先进建模软件,支持复杂多层结构分析,是集成电路制造与纳米材料研发的核心测量工具。

🧭 核心要点

  • Woollam椭偏仪如M-2000、RC2系列覆盖193-3200nm宽光谱范围,支持反射、透射及穆勒矩阵测量,精度达亚埃级
  • 在半导体、光学镀膜及显示面板领域,用于监测氧化物、氮化物及聚合物薄膜厚度与材料特性,实现过程控制与质量优化
  • 设备配备先进建模软件,支持复杂多层结构分析,是集成电路制造与纳米材料研发的核心测量工具

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