氮化铝基板的高导热特性与功率电子应用

氮化铝基板的高导热特性与功率电子应用
氮化铝基板热导率高达170-320W/(m·K),远超氧化铝基板,且热膨胀系数与硅匹配,适合高密度功率模块封装。 其高绝缘耐压、低介电常数特性广泛应用于新能源汽车、5G通信和航空航天领域,提升器件可靠性和散热效率。...

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氮化铝基板热导率高达170-320W/(m·K),远超氧化铝基板,且热膨胀系数与硅匹配,适合高密度功率模块封装。

其高绝缘耐压、低介电常数特性广泛应用于新能源汽车、5G通信和航空航天领域,提升器件可靠性和散热效率。

氮化铝基板生产工艺不断优化,推动电子工业向高功率、小型化方向发展。

🧭 核心要点

  • 氮化铝基板热导率高达170-320W/(m·K),远超氧化铝基板,且热膨胀系数与硅匹配,适合高密度功率模块封装
  • 其高绝缘耐压、低介电常数特性广泛应用于新能源汽车、5G通信和航空航天领域,提升器件可靠性和散热效率
  • 氮化铝基板生产工艺不断优化,推动电子工业向高功率、小型化方向发展