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📋 金电极精密打磨工艺及表面处理技术要点 详细介绍金电极打磨通常采用分级砂纸湿磨+氧化铝抛光膏精抛的工艺路线,最终表面粗糙度Ra需控制在10nm以下。打磨后需依次使用无水乙醇、丙酮、超纯水超声清洗,避免任何有机物或颗粒残留影响电极活性位点。对于电化学工作站使用的旋转圆盘电极(RDE)或超微电极,金电极表面质量直接决定CV曲线峰形对称性与背景电流大小,是实验成败关键。
🧭 核心要点要金电极打磨通常采用分级砂纸湿磨+氧化铝抛光膏精抛的工艺路线,最终表面粗糙度Ra需控制在10nm以下要打磨后需依次使用无水乙醇、丙酮、超纯水超声清洗,避免任何有机物或颗粒残留影响电极活性位点要对于电化学工作站使用的旋转圆盘电极(RDE)或超微电极,金电极表面质量直接决定CV曲线峰形对称性与背景电流大小,是实验成败关键
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