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🧭 核心要点要装置通常采用预处理、反渗透膜过滤、电去离子EDI等核心工艺,去除水中离子、颗粒与有机物,产水电阻率可达18MΩ·cm以上要适用于半导体清洗、制药配液及锅炉补给水等领域,系统模块化设计便于维护,自动控制确保出水水质稳定可靠要运行中需定期更换滤芯与监测电导率,严格执行再生与消毒程序,以维持装置高效长周期运行
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